Области применения: fuel cells, photovoltaics

Форма подложки: flat/rigid

Материал подложки: glass, metals, polymer, stainless steel, wafers

Технология нанесения покрытий: electron beam technology, magnetron sputtering down, magnetron sputtering up

Назначение: anti-reflection, contact, corrosion protection, passivation, TCO

Слои и многослойные покрытия: Ag, Al, AlOx, AZO, C, Co, Cr, Cu, ITiO, ITO, Ni, NiV, SiN, SiOx, Ti, TiOx, Zn

Соответствующие компоненты и системы:
Sputter Components
Pre-Treatment